(+86)10-67832716/17

Your location:
Homepage
/
/
/
DE400DHL E-beam Evaporation System
DE400DHL
DE400DHL

DE400DHL E-beam Evaporation System

The DE400DHL Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source,  the substrate is mounting on the top of the chamber and rotary or on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the deposition angle.

The DE400DHL Electron Beam Evaporator is assembled with one e-beam source,  the substrate is mounting on the top of the chamber and rotary or on the horizontal axial on the side of chamber for the substrate polar to change the deposition angle.

Features

>  D shape Chamber of front open door for easy inside operation

>  Stand along system frameworks and electric rack

>  System and e-beam source Water Interlock

>  Optional Substrate Cooling or heating 

 

Configuration

Evaporation Chamber

304 stainless steel chamber with viewport

Vacuum Pumping

Cryo-pump or Turbo pump and dry rough pump

Vacuum Valve

Pneumatic HV gate valves

Evaporation Source

Multi pocket e-beam source

Optional Load Lock chamber

304 stainless steel chamber with viewport

Sample Stage 

Top mount and rotary or Side mount polar Substrate

Film Control

Crystal Film thickness Monitor and Control 

Vacuum Gauging

Wide range vacuum gauge and rough gauge

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Specification

The Base Vacuum Pressure

better than 3E-8 Torr

Sample Loading Capacity

One Max. 8 inch flat substrate or multi small substrate

Rate Resolution

0.05 Angstroms/sec

Thickness Resolution = 0.02 Angstroms

0.02 Angstroms

 

Product description

相关产品

There is currently no content to display
Please add data record on website background.

 COPYRIGHT© 2020 Beijing Deyi Tianli Technology Development Co., Ltd. All rights reserved ICP05065635  Website construction:www.xinnet.com

德仪科技
德仪科技